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詳細介紹
Leica EM SCD500是一套多功能高真空鍍膜儀，可以產生非常薄，顆粒極細小的金屬薄膜或導電的碳膜，適用于高分辨的FE-SEM分析。
Leica EM SCD500在一個單元體系中即可實現很多種可選的改裝，不僅可以高真空濺射鍍膜，還可碳絲鍍膜，熱阻蒸發(fā)鍍膜及碳棒蒸發(fā)鍍膜，還可實現冷凍樣品制備，如冷凍干燥，冷凍斷裂/蝕刻，雙復型，冷凍鍍膜及與Leica EM VCT100相連實現冷凍樣品的真空傳輸。
為您帶來的優(yōu)勢
一機多配在一個單元體系中可實現多種可選的改裝，即通過簡易改裝便可適用于不同應用。真空樣品倉可調換以適用不同的樣品尺寸或不同用途。 | 高真空系統(tǒng)高真空系統(tǒng)可獲得*的鍍膜質量，可選配的無油真空系統(tǒng)，使用隔膜泵可實現*無油污染的鍍膜。 |
行星轉動樣品臺行星轉動樣品臺，可提供zui均一的表面鍍膜效果；旋轉及傾斜樣品臺也可獲得很好的鍍膜。 | 無級可調高度樣品臺無級可調高度樣品臺高度與予選薄膜沉積調節(jié)和保存樣本濺射參數對試樣的破壞減到zui低。 |
蝕刻裝置內置高壓蝕刻裝置清潔表面，提高了涂層的附著力，或增進碳薄膜的親水性 |
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