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日本武藏MUSASHI全自動(dòng)晶片水準(zhǔn)點(diǎn)膠機(jī)器FAD5100S-WH

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更新時(shí)間:2025-03-13 15:53:18瀏覽次數(shù):24

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日本武藏MUSASHI全自動(dòng)晶片水準(zhǔn)點(diǎn)膠機(jī)器FAD5100S-WH全自動(dòng)涂布裝置支持智能手機(jī)以及汽車的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的全自動(dòng)涂布裝置的世界標(biāo)準(zhǔn)機(jī)。不僅在線式而且,也支持分批法。用讓武**特的高度的液體涂布技術(shù)和FA技術(shù)融成一體的*好的鍵技術(shù)滿足高度的要求。實(shí)現(xiàn)***的后端過(guò)程FAD5100系列的進(jìn)化形。被自自設(shè)定晶片上的設(shè)備排列。為程序人工數(shù)的大幅度的削減做貢獻(xiàn)。? 出自無(wú)停止連續(xù)動(dòng)作的高速的涂布:特快

詳細(xì)介紹

日本武藏MUSASHI全自動(dòng)晶片水準(zhǔn)點(diǎn)膠機(jī)器FAD5100S-WH

全自動(dòng)涂布裝置

支持智能手機(jī)以及汽車的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的全自動(dòng)涂布裝置的世界標(biāo)準(zhǔn)機(jī)。不僅在線式而且,也支持分批法。用讓武**特的高度的液體涂布技術(shù)和FA技術(shù)融成一體的*好的鍵技術(shù)滿足高度的要求。

實(shí)現(xiàn)***的后端過(guò)程FAD5100系列的進(jìn)化形。
被自自設(shè)定晶片上的設(shè)備排列。為程序人工數(shù)的大幅度的削減做貢獻(xiàn)。

全自動(dòng)晶片水準(zhǔn)點(diǎn)膠機(jī)器FAD5100S-WH的圖片-1
? 出自無(wú)停止連續(xù)動(dòng)作的高速的涂布:特快點(diǎn)膠機(jī)能。
? 出自無(wú)停止連續(xù)動(dòng)作的高速的成直線:特快對(duì)齊功能。
? 使涂布量自動(dòng)化:DVM機(jī)能。
? 被博伊德回避形成理想的涂布模式"葉線":MCD機(jī)能[PAT.P]。
? 大量事前防止**:AFC機(jī)能。
?晶片變換操作搭載。

SPECIFICATION概略規(guī)格

名稱
全自動(dòng)晶片水準(zhǔn)點(diǎn)膠機(jī)器FAD5100S-WH
型號(hào)
FAD5100S-WH
控制方式
PC/PLC控制(SMEMA根據(jù))
適用工件臺(tái)
12"晶圓,8"晶圓



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